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無塵無氧化烤箱的規范操作方法介紹

更新時間:2025-09-17       瀏覽次數:45
   在半導體封裝、精密電子、新能源電池、光學鍍膜及材料燒結領域,無塵無氧化烤箱集高潔凈度、惰性氣氛保護與精準溫控于一體,為敏感材料提供無污染、無氧化的加熱環境,運行質量直接影響產品良率與性能穩定性。掌握無塵無氧化烤箱科學、規范的操作方法,是確保其高效的關鍵。

 


  第一步:環境準備與氣源確認
  將設備置于潔凈車間或獨立通風區,遠離粉塵與振動源。檢查氮氣(N2)或氬氣(Ar)氣源壓力是否充足(通常≥0.4MPa),管道連接牢固無泄漏。確認排氣口接入專用廢氣處理系統,避免有害氣體積聚。
  第二步:開機自檢與氣氛置換
  接通電源,開啟總開關。啟動控制系統,進行系統自檢。關鍵步驟:開啟惰性氣體閥門,執行“預吹掃”程序(通常10–30分鐘),用高純氣體(≥99.999%)置換腔體內空氣,將氧含量降至設定閾值(如<10ppm)。通過氧分析儀實時監測,確保氣氛達標。
  第三步:裝載物料與密封操作
  佩戴潔凈手套,使用無塵工具將待烘物料(如晶圓、電極片、陶瓷生坯)放入石英或不銹鋼舟皿中。輕緩推入爐膛,避免震動產生顆粒。關閉爐門,手動或自動鎖緊密封結構,確保腔體氣密性。嚴禁在無氣體保護下加熱。
  第四步:參數設定與程序啟動
  通過觸摸屏設定工藝曲線:
  溫度:設定升溫速率、恒溫溫度(如150℃、300℃、600℃)與保溫時間;
  氣氛:設定氣體流量(如5–20L/min)與壓力(微正壓);
  時間:可設置多段升溫-保溫-降溫程序。
  確認無誤后啟動運行,系統自動執行控溫與氣氛維持。
  第五步:運行監控與過程記錄
  觀察溫度曲線、氣體流量與氧含量實時數據,確保在設定范圍內。部分型號支持遠程監控與報警推送。嚴禁在運行中頻繁開門,防止氧氣侵入與溫度驟降。
  第六步:降溫與取料
  程序結束后,系統自動降溫。關鍵步驟:保持惰性氣體持續通入,直至爐溫降至安全溫度(如<80℃),防止高溫物料接觸空氣氧化。確認氧含量穩定后,方可開門取料。取出物料后立即密封包裝,避免二次污染。
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